據媒體報道指ASML表示已獲得許可對中國供應先進的DUV光刻機，而比之前可以對中國供應的1980Di更進一步，這次獲得許可出口的光刻機為更先進的2000i，這意味著荷蘭和ASML終于清醒了。

今年上半年，ASML表示它可以對中國出口的最先進光刻機為1980Di，1980Di為38納米光刻機，可以通過多重曝光的方式實現28納米工藝生產，不過卻會造成成本更高的問題，而2000i比1980Di更先進，可以更好地生產28納米，甚至還可以用多重曝光的方式實現7納米工藝。

當年臺積電研發的第一代7納米工藝就是以2000i這款DUV光刻機實現的，由此足可以看出2000i有多么先進，而此前在眾所周知的壓力下，ASML被限制出售14納米以下的DUV光刻機，到了今年上半年2000i就被限制對中國出口了。

如今荷蘭突然轉變態度，給ASML發放許可證，可以將2000i對中國出售，意味著荷蘭和ASML的態度發生了重大改變，導致他們的態度發生轉變，可能在于中國光刻機技術的進展，以及全球芯片市場的變化。

ASML的1980Di、2000i都是浸潤式光刻機，浸潤式光刻技術為芯片制造工藝進入28nm及更先進工藝的關鍵技術，日前中國有知名媒體披露消息指中國的28納米光刻機將在年底前量產，這意味著國產光刻機解決了浸潤式光刻技術，如此中國的浸潤式光刻機可望得到加速發展，如此情況下促使ASML抓住時間窗口對中國出口2000i光刻機，搶占市場。

其次則是全球芯片行業發生重大變化，由于芯片供給過剩，三星、臺積電和Intel都有放緩擴張的跡象，三星甚至在去年底搶購的10臺EUV光刻機如今都只能放在倉庫里，因為今年一季度顯示三星的庫存芯片金額高達3400億元，被迫減產，如此情況下促使ASML尋找新的客戶，而中國當前正需要大舉采購光刻機，中國市場成為ASML不可舍棄的市場。

這種跡象其實今年二季度就已有所顯現，去年下半年和今年一季度ASML對中國的光刻機出口大幅減少，中國為它貢獻的收入低至8%，但是到了今年二季度中國市場為ASML貢獻的收入占比猛增至24%，荷蘭的出口數據也顯示對中國的芯片設備出口猛增。

對比之下，荷蘭和ASML一味順從美國的要求，然而美國芯片行業卻并未因此給予他們回報。美光去年研發繞開EUV光刻機的1β工藝，近期Intel又傳出重拾DSA技術同樣意圖繞開EUV光刻機，這都顯示出美國芯片行業并未因為ASML的順從而大舉采購EUV光刻機，相反還試圖擺脫ASML，這讓ASML相當不滿。

美國芯片行業試圖繞開EUV光刻機，在于EUV光刻機實在太貴了，第一代EUV光刻機售價達到1.2億美元，第二代EUV光刻機預計售價達到4億美元，昂貴的價格讓美國芯片望而卻步，而且如今美國芯片行業也在衰退，至今已有四家美國芯片企業出現虧損，Intel和美光正是虧損最嚴重的兩家芯片企業，他們試圖繞開EUV光刻機降低成本也就在情理之中。

ASML當然會不滿，美國不讓賣EUV光刻機給中國，美國芯片又不賣，如今美國還不允許ASML將技術成熟的DUV光刻機賣給中國，這是不給ASML活路啊。就在2005年之前，ASML那時候還得看著飛利浦的眼色行事，ASML可不希望回到那么艱難的日子。

ASML為荷蘭最大的出口企業，ASML的出口深刻影響著荷蘭的經濟，顯然荷蘭和ASML在徘徊了數個月之后，終于清醒認識到中國市場是如此重要，如果主動舍棄中國市場，那么他們都將受到重創，允許ASML對中國出口先進光刻機是最有利的選擇，他們最終選擇了正確的道路。