說起芯片制造過程中，最重要的設備是什么，相信絕大多數(shù)人都會說是光刻機。

從光刻機的全球格局來看，荷蘭的ASML是獨霸天下，EUV光刻機只有它能夠生產(chǎn)，而日本的佳能、尼康早已淪為二流，中國的上海微電子落后了十多年，在奮起追趕。

而美國雖然在芯片領域占了全球近50％的市場，卻沒有光刻機廠商。

事實上，光刻機最早是由美國發(fā)明的，那么問題就來了，為何發(fā)明了光刻機，美國卻自己沒有光刻機，最后是ASML稱王？

光刻機的原型，最早出現(xiàn)在上世紀的五、六十年代，那時候貝爾實驗室就已經(jīng)搞出了這種東西，但一直沒有重視，畢竟當時的芯片制造并不依賴光刻技術。

再加上研究這東西，成本太高，且在當時對芯片制造，也沒太多有價值的作用，于是美國廠商也不重視它。

后來在七、八十的年代，日本半導體高速發(fā)展，日本的佳能、尼康在光刻機領域崛起，于是美國從事光刻業(yè)務的相關企業(yè)，基本就沒落了，后來美國搞光刻機的企業(yè)Cobilt甚至被賣掉了。

后來英特爾與歐洲公司 Censor 合作，想要搞一臺類似于光刻機這樣的新東西出來，然而嘗試失敗了，最終整個光刻機市場被尼康、佳能占據(jù)。

后來到了2004年，臺積電提出了浸潤式光刻方案，當時的光刻機巨頭尼康、佳能并不看好，反而小企業(yè)ASML決定試一試，于是一試成功，僅5年時間，就成為全球光刻機巨頭，把尼康、佳能甩到了身后。

后來ASML擔心自己被制約，也擔心其它芯片廠商扶持另外的光刻機企業(yè)，威脅到自己的地位，于是想了一招，讓intel、臺積電、三星等成為了自己的股東。

同時ASML還加入了英特爾牽頭搞的前沿組織EUV LLC，成功站隊，讓美國對ASML也不再擔心，于是也不限制ASML的成長。

而美國也覺得ASML是受自己控制的，讓他發(fā)展也沒什么，也會被自己所用，再加上搞光刻機也確實很難，沒什么企業(yè)愿意去搞，反正找ASML買就行了，所以導致美國沒有光刻機廠商。