- 中國芯片奮力前行，各出奇謀打破芯片工藝限制，西方驚呼不可能
- 3nm芯片工藝，真的有必要么？蘋果A16或能證明，性價比太差
- ASML CTO：EUV光刻技術(shù)，或在2025年走到盡頭，意味芯片工藝停止？
- 全球研發(fā)無需光刻機的芯片制造工藝，ASML的前景一片黯淡
- 美國芯片不好過，臺積電的先進工藝研發(fā)難以為繼
- 臺積電再受重擊，先進工藝需求不強，2nm延遲至2025年
- 蘋果擠牙膏，還是臺積電4nm工藝不行？A16跑分多核下降3%
- 聯(lián)想真的造芯了！5nm工藝，ARM架構(gòu)，用于平板，已點亮
- 芯片產(chǎn)能真過剩了：成熟工藝降價20%，臺積電要關(guān)4臺EUV光刻機
- 國產(chǎn)EDA有多慘？僅占12%的市場，40%的工藝環(huán)節(jié)是空白
