而ASML預(yù)計(jì)在2024年或2025年會(huì)交付最新一代的High-NA極紫外光刻機(jī)EXE:5200，它能夠制造2nm，甚至是1.8nm的芯片。

因?yàn)橛⑻貭栍?jì)劃在2025年實(shí)現(xiàn)2nm芯片的量產(chǎn)，用的就是EXE:5200，所以很明顯，EXE:5200是能夠制造2nm芯片的。

至于2nm之后，EUV光刻機(jī)還行不行？能不能達(dá)到這個(gè)精度？目前不管是intel，還是ASML，或者是臺(tái)積電、三星，目前都沒有太多規(guī)劃，因?yàn)檫€離得太遠(yuǎn)了，很多技術(shù)還沒法落實(shí)，自然就不會(huì)對(duì)外公開什么。

不過近日，有一家美國企業(yè)，或許給大家提供了另外一個(gè)思路，那就是2nm之后，不一定非得用EUV光刻機(jī)，另外一套光刻系統(tǒng)，也一樣可以實(shí)現(xiàn)的，那就是EBL電子束光刻機(jī)。

按照媒體的報(bào)道稱，美國公司Zyvex使用電子束光刻技術(shù)制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片。

所謂的電子束光刻機(jī)，就是利用能量非常低的電子來進(jìn)行光刻，其精度遠(yuǎn)比EUV光刻機(jī)更高，所以制造出了768皮米的芯片。

Zyvex還表示稱，這樣的光刻機(jī)已經(jīng)可以商用了，只需要6個(gè)月就可以交貨，估計(jì)接下來一定會(huì)有眾多的廠商找它訂貨。

不過中國大陸注定是買不到的，EUV光刻機(jī)都買不到，更先進(jìn)的當(dāng)然就更加買不到了，這個(gè)原因不用我多說。

另外值得注意的是，目前Zyvex的這種電子束光刻機(jī)有一個(gè)大缺點(diǎn)，那就是產(chǎn)量很低，無法大規(guī)模制造芯片，不過未來這種技術(shù)會(huì)不會(huì)得到改進(jìn)，從而能夠大規(guī)模制造芯片，就不得而知了。

反正現(xiàn)在該緊張的是ASML了，目前ASML靠獨(dú)一無二的EUV光刻機(jī)，卡住全球晶圓廠的脖子，一旦大家不依賴EUV光刻機(jī)了，ASML該怎么辦？