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道阻且艱!國產光刻膠自給率獲1%突破,但進口光刻機又一次被“掐斷”

2023-07-20 來源:賢集網
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關鍵詞: 光刻膠 芯片 光刻機

光刻膠是光刻機生產、芯片生產的核心原材料之一,其作用是用于抗腐蝕涂層材料。雖然我國也能生產光刻膠,但在高端光刻膠領域,我們依然依賴于進口。


據悉,在高端光刻膠領域,日本占據了全球市場的75%,掌握了高端光刻膠的絕對話語權。反觀國內的高端光刻膠市場份額就比較寒酸,讓人有些難過。以ArF光刻膠為例,這種光刻膠用于14nm至130nm的芯片、光刻機上,但我國仍需要從日企購買ArF光刻膠。


國產光刻膠虛有其表?



近年來,中國在科技領域取得了長足的進步,其中光刻膠技術的突破令人矚目。光刻膠是半導體制造過程中不可或缺的關鍵材料,其自給率一直以來都相對較低,依賴進口。然而,最近的數據顯示,國產光刻膠的自給率突破了1%,這意味著中國在這一領域取得了重大突破。

令人費解的是,盡管國產ArF光刻膠取得了初步成果,一些使用國產光刻膠的企業和研究機構開始報告一些異常情況。他們發現,使用國產光刻膠制造的芯片在性能和穩定性方面出現了一些問題。

有專家指出,國產光刻膠自給率的突破是一個重要的里程碑,但在技術上仍然存在一些挑戰。光刻膠的制備過程非常復雜,需要嚴格控制各種參數,以確保其質量和性能。然而,國內生產的光刻膠在這方面可能還存在一些問題,導致了性能和穩定性的下降。

另外,一些人認為,國產光刻膠自給率突破1%后,市場需求的迅速增長可能也是問題的一個因素。由于國內供應的增加,一些企業可能面臨著生產規模擴大的壓力,導致生產過程中的一些問題沒有得到充分解決。這可能導致了一些芯片的質量問題。不過,也有人持不同觀點。他們認為,這個奇怪的現象可能只是一個暫時的現象,隨著國產光刻膠技術的進一步發展和完善,這些問題將會逐漸解決。他們相信,國產光刻膠的自給率突破1%只是一個起點,未來將會有更多的突破和進步。

無論是技術問題還是市場需求的壓力,我們都應該以冷靜和理性的態度面對,并積極尋求解決方案。相信中國的光刻膠技術將迎來更加輝煌的未來。


高端EUV光刻機領域進展依然為零



雖然在高端光刻膠領域,我國已經實現了1%自給率的突破,但在高端EUV光刻機領域,我們的進展依然為零。其實這兩者并沒有必然的沖突關系。

首先,ArF光刻膠僅僅是光刻膠中的一種類型,覆蓋范圍為28nm至90nm,而EUV光刻膠則用于更高精度的7nm光刻工藝。其次,南大光電研發的ArF光刻膠尚處于實驗階段,距離實際應用和量產仍有相當的差距。再者,國產光刻膠目前尚無法滿足高端光刻機對材料的嚴格要求。最后,光刻機的研發涉及成千上萬個零部件,僅憑光刻膠這一項技術的突破是遠遠不夠的,需要光刻膠等眾多技術的整體突破。

綜上所述,南大光電的ArF光刻膠技術進展雖然標志著國產光刻膠自給率突破1%的里程碑,但離真正成為國產光刻機的決定性技術還有很長的路要走。

高科技產品的研發需要各種技術的突破和融合,不能僅依靠單一技術的進步。每當國產光刻膠取得某項進展時,網友們總是忍不住熱情贊揚。然而,相較于過分的熱情,保持理性的分析和支持對國產芯片光刻機研發的成功更為有益。

自從華為遭受老美打壓后,國人對國產光刻機、國產芯片的發展極為關注。但凡光刻機、芯片的某項技術實現突破,網絡上就掀起了一股‘厲害了’‘碾壓其他公司’的言論。一旦這些技術無法改變國產光刻機、國產芯片的處境,那么網絡上就對這些技術嗤之以鼻,甚至是責罵。任何尖端設備的研發成功是數以萬計技術的突破,靠一項、十幾項技術突破無法改變現狀。所以網友們還是少一點自大,多一點低調,唯有如此,我們才能營造良好科研環境。

我們更應該關注國產芯片光刻機領域的各項技術進展,鼓勵創新,助力整個產業鏈的發展。只有在各項技術不斷突破、整體實力不斷提升的基礎上,國產光刻機才能邁出堅實的步伐,為中國的芯片產業發展貢獻力量。讓我們一起為國產芯片光刻機的研發加油,期待更多的突破和成功!


漂亮國進一步制裁中企



因為美國的各種制裁打壓,中國近幾年對半導體產業的重視度也提升了許多,過去我們只進口芯片,但現在各種國產芯片的誕生,已經徹底顛覆了以往的認知。

但在這樣的背景下,美國又試圖進一步制裁中企,通過掐斷半導體設備的方式打壓中國半導體產業的發展,而且這次打壓對中企來說,損失也是蠻大的。要知道當前我國正處于芯片制造布局的關鍵階段,所以需要大批半導體設備支持發展,但就在此時,荷蘭又因為美國的要求而正式宣布了,要對DUV光刻機進行更為嚴厲的制裁。據媒體報道,6月底荷蘭方面正式宣布,針對先進半導體設備出口的新規,要求相關企業在出口先進產品前必須獲得許可證,雖然荷蘭政府并未點名,但基本可以確定就是ASML。

ASML作為全球芯片光刻技術的佼佼者,生產的DUV和EUV是制造高端芯片必不可少的設備。在此之前,只有EUV光刻機出口需要獲得許可,但隨著新規修改,ASML最先進的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2000i及后續推出的浸潤式光刻系統都要獲得出口許可了。如果該新規全面落實下來,那么ASML在中國大陸市場基本崩盤了,對于這家荷蘭光刻機巨頭來說,也必然是沉重打擊。

原因很簡單,因為ASML在2022年銷售的345臺光刻機中,有14%都是銷往中國大陸的,中國大陸市場也成為了僅次于中國臺灣和韓國的第三大光刻機市場。更關鍵的是,中國大陸正在大力發展半導體產業,所以未來對光刻機的需求量還會大幅提升,一旦ASML失去了這個市場,也等于就是失去了未來的增長機會。

所以針對荷蘭政府的突然制裁,ASML方面是強烈抗議的,但一個企業再大也大不過政府,在美國的慫恿下,荷蘭政府做出如此害人害己的決定,一定會為此付出巨大代價。

可喜的是:數據顯示,今年前五個月我國進口芯片的數量為1865億顆,這一數據相比上一年同期的2320億顆減少了455億顆,同比下降了19.6%,芯片進口數量的減少,說明國內半導體廠商正在搶占市場。具體來說,二極管及類似半導體器件進口 2156.3 億個,下降 34.4%,價值 784.1 億元,下降 14.2%;集成電路進口 2277.7 億個,下降 18.5%,價值 1.12 萬億元,下降 17.0%。

在國產半導體自給自足的推動下,中國大陸傳統芯片和其他成熟技術集成電路的產量激增,中國已取得不錯的成績。然革命尚未成功,同志仍需努力!



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